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技術(shù)文章
TECHNICAL ARTICLES在納米材料、地質(zhì)礦物、高分子復(fù)合材料等前沿領(lǐng)域,物質(zhì)的微觀結(jié)構(gòu)往往決定其宏觀性能。然而,傳統(tǒng)光學(xué)顯微鏡在面對(duì)各向異性材料(如晶體、纖維、液晶)時(shí),常因光線折射率差異導(dǎo)致圖像模糊,難以揭示其內(nèi)部有序排列的“隱形骨架”。徠卡偏光顯微鏡憑借偏振光干涉技術(shù)與高精度光學(xué)設(shè)計(jì),成為探索微觀晶格世界的“極光之窗”,為材料科學(xué)、地質(zhì)學(xué)、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域提供了一把破解物質(zhì)結(jié)構(gòu)密碼的“金鑰匙”。一、偏振光技術(shù):讓“隱形晶格”顯形的光學(xué)魔法普通顯微鏡的光線為非偏振光,在通過(guò)各向異性材料時(shí)會(huì)發(fā)生雙折射...
一、鄰近效應(yīng):微納加工的“隱形殺手當(dāng)電子束穿透光刻膠時(shí),會(huì)與材料發(fā)生復(fù)雜相互作用:一部分電子前向散射,另一部分被襯底反彈形成背散射電子。這些“不聽(tīng)話”的電子會(huì)擴(kuò)散到預(yù)設(shè)圖形區(qū)域之外,就像墨水在宣紙上暈染開(kāi)一般,造成中心區(qū)域欠曝、邊緣過(guò)曝的現(xiàn)象。從澤攸科技的實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)可見(jiàn)(圖2)未校正時(shí),同一芯片上不同區(qū)域的線寬差異可達(dá)30%以上。二、劑量校正技術(shù):給電子束裝上“導(dǎo)航系統(tǒng)”傳統(tǒng)解決方式如同“盲人摸象”,而澤攸科技采用的智能劑量校正方案實(shí)現(xiàn)了三大創(chuàng)新:1.雙高斯建模:通過(guò)α(前散射...
在材料科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)及半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域,對(duì)樣品內(nèi)部結(jié)構(gòu)的精準(zhǔn)觀測(cè)是推動(dòng)技術(shù)突破的核心環(huán)節(jié)。然而,傳統(tǒng)切片機(jī)常因振動(dòng)干擾、厚度偏差等問(wèn)題,導(dǎo)致樣品邊緣碎裂、層間剝離或成像模糊,嚴(yán)重制約研究效率。RMC半薄切片機(jī)憑借其亞微米級(jí)精度控制與智能化操作體系,成為制備高質(zhì)量薄片樣品的革命性工具,為透射電鏡(TEM)、原子力顯微鏡(AFM)等高級(jí)分析技術(shù)提供了可靠保障。1.動(dòng)態(tài)振動(dòng)補(bǔ)償技術(shù):突破厚度極限的“穩(wěn)定器”傳統(tǒng)切片機(jī)在高速切削時(shí),刀片與樣品間的微小振動(dòng)會(huì)引發(fā)“厚度波動(dòng)效應(yīng)”,導(dǎo)致薄...
一、ZYGO共聚焦干涉儀技術(shù)突破:從實(shí)驗(yàn)室精度到工業(yè)環(huán)境適應(yīng)性抗振與動(dòng)態(tài)測(cè)量能力傳統(tǒng)干涉儀對(duì)環(huán)境振動(dòng)極為敏感,需在恒溫、隔振實(shí)驗(yàn)室中運(yùn)行。ZYGO通過(guò)QPSI™(快速相位偏移干涉)技術(shù),結(jié)合波長(zhǎng)調(diào)制采樣方式,使共聚焦干涉儀在振動(dòng)環(huán)境下仍能保持高精度測(cè)量。例如,其300mm立式球面干涉儀(VWS)在生產(chǎn)環(huán)境中實(shí)現(xiàn)RMS波前重復(fù)性優(yōu)于1納米,曲率半徑測(cè)試不確定度達(dá)百納米級(jí),突破了實(shí)驗(yàn)室級(jí)儀器對(duì)環(huán)境的嚴(yán)苛依賴。大口徑與復(fù)雜曲面測(cè)量針對(duì)工業(yè)大尺寸元件(如光刻物鏡透鏡),Z...
一為什么EUV離不開(kāi)EBL?很多人會(huì)疑惑:既然EUV已經(jīng)能高效量產(chǎn)先進(jìn)芯片,為什么還要投入精力研發(fā)電子束光刻?答案藏在兩者的“分工”里。EUV追求的是“批量生產(chǎn)的經(jīng)濟(jì)性”,就像印刷廠的大型設(shè)備,能快速?gòu)?fù)制已有的設(shè)計(jì);而EBL解決的是“從0到1的可行性”,如同作家的鋼筆,負(fù)責(zé)創(chuàng)造全新的“故事”沒(méi)有EBL,EUV的掩模版無(wú)從談起——這種高精度的“模具”是芯片量產(chǎn)的基礎(chǔ),必須依靠電子束光刻的納米級(jí)分辨率(可達(dá)2nm)來(lái)制作。更重要的是,在3nm以下制程研發(fā)、量子計(jì)算、二維材料等前沿...
在科技日新月異的今天,白光干涉共聚焦顯微鏡作為光學(xué)顯微技術(shù)領(lǐng)域的一顆璀璨明珠,正以其特殊的成像原理和杰出的性能,推動(dòng)著微觀世界探索的新風(fēng)潮。它不僅極大地提升了我們對(duì)材料表面形貌、薄膜厚度、粗糙度等微觀特性的認(rèn)知能力,還在半導(dǎo)體、生物醫(yī)學(xué)、材料科學(xué)等多個(gè)領(lǐng)域展現(xiàn)出廣泛的應(yīng)用潛力。白光干涉共聚焦顯微鏡的核心優(yōu)勢(shì)在于其結(jié)合了白光干涉與共聚焦掃描兩大技術(shù)。白光干涉技術(shù)利用光波的干涉原理,通過(guò)測(cè)量樣品表面反射光與參考光之間的光程差,精確重構(gòu)出樣品表面的三維形貌。這種技術(shù)具有非接觸、無(wú)損...
為什么微觀觀察是污染研究的“第一道門(mén)”?微橡膠顆粒的環(huán)境危害,與其微觀形貌、表面特性、粒徑分布密切相關(guān):粗糙的表面更容易吸附重金屬和有機(jī)污染物,細(xì)小的粒徑則能穿透生物屏障進(jìn)入細(xì)胞。但這些顆粒直徑多在1-500微米之間,遠(yuǎn)超光學(xué)顯微鏡的分辨極限,傳統(tǒng)檢測(cè)手段難以捕捉關(guān)鍵細(xì)節(jié)。澤攸科技ZEM系列臺(tái)式掃描電鏡的出現(xiàn),為研究者打開(kāi)了微觀觀察的“快速通道”。無(wú)需復(fù)雜樣品制備,即可實(shí)現(xiàn)納米級(jí)分辨率成像,讓微橡膠顆粒的真實(shí)面貌清晰呈現(xiàn)——這正是青島科技大學(xué)等團(tuán)隊(duì)在TWP與LAP毒性對(duì)比研究...
在科研領(lǐng)域,顯微鏡就像科學(xué)家的“火眼金睛”,幫我們看清微觀世界的奧秘。而電子源,就是這雙眼睛的“光源”,其性能直接決定了觀測(cè)的精度和效率。最近,由北京大學(xué)等團(tuán)隊(duì)聯(lián)合研發(fā)的“光纖集成石墨烯超快電子源”登上了《NatureCommunications》,用創(chuàng)新設(shè)計(jì)打破了傳統(tǒng)電子源的諸多限制,而澤攸科技的ZEM系列臺(tái)式掃描電鏡,更是為這項(xiàng)研究提供了關(guān)鍵助力傳統(tǒng)電子源的“老大難”:效率低還“嬌氣”提到電子源,你可能會(huì)覺(jué)得陌生,但它卻是真空電子技術(shù)的核心。無(wú)論是高精度的時(shí)間分辨成像,還...
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